بررسی حذف فتوکاتالیستی سفالکسین از محلول های آبی با استفاده از فرایند UV/ZnO

خلاصه فارسی

زمینه و هدف: در سال هاي اخير نگراني ها درباره حضور غلظت هاي بالاي آنتي بيوتيك ها در محيط زيست افزايش يافته است. فرايندهاي متداول تصفيه آب قادر به حذف این آلاینده های مقاوم نیستند. بنابراین، استفاده از فرایندهای اکسیداسیون پیشرفته (AOPs) مورد توجه قرار گرفته است. هدف از این مطالعه بررسی کارایی فرایند فتوکاتالیستی UV/ZnO در حذف آنتی بیوتیک سفالکسین از محلول های آبی بود. مواد و روش ها: در اين مطالعه نانوذرات ZnO از عصاره گیاه پونه سنتز شد. تأثير متغيرهايpH ، دوز نانوذرات، غلظت اوليه آنتی بیوتیک، زمان واكنش و شدت تابش بر روي کارایی فرآيند UV/ZnO بررسي شد. غلظت سفالکسین با استفاده از دستگاه HPLC تعيين گرديد. تست سمیت به منظور تعیین میزان سمیت سفالکسین پس از فرایند فتوکاتالیستی انجام گرفت. یافته ها: نتایج نشان داد که با کاهشpH و کاهش غلظت اولیه سفالکسین و افزایش زمان تماس و شدت تابش، کارایی فرایند افزایش می¬یابد. ولی با افزایش دوز نانوذره تا 0/1 گرم بر لیتر، کارایی فرایند افزایش و بیش از این مقدار کاهش می یابد. نتایج مطالعه سمیت میکروبی، کاهش سمیت محلول سفالکسین حاصل از فرایند فتوکاتالیستی را نشان داد. نتیجه گیری: نتایج این مطالعه نشان داد فرایند فتوکاتالیستی UV/ZnO روشي كارآمد در حذف آنتی بیوتیک سفالکسین از محلول¬هاي آبي مي باشد

عنوان انگليسی

Photocatalytic removal of Cephalexin from aqueous solutions using UV/ZnO process

خلاصه انگلیسی

Background: Recently, concerns regarding high concentrations of antibiotics in the environment have increased. Conventional water treatment processes are known to be generally inadequate for the elimination of these persistent contaminants. Therefore, the use of advanced oxidation processes (AOPs) has attracted a great amount of attention. The aim of this study was to evaluate the efficiency of UV/ZnO photocatalytic process in removal of cephalexin from aqueous solutions. Methods: In the present study, ZnO nanoparticles were synthesized from the plant extract of Mentha pulegium. The effect of variables such as pH, dose of nanoparticles, initial antibiotic concentration, contact time and Intensity of radiation were investigated on the efficiency of UV/ZnO process. Cephalexin concentration was determined using high-performance liquid chromatography (HPLC). Toxicity test was performed to determine the toxicity of cephalexin after the photocatalytic process. Finding: We found that the removal efficiency increased whith decreasing pH and initial antibiotic concentration and increasing contact time and radiation Intensity. But the removal efficiency increases with increase in catalyst amount to 0.1 g/l and then decrease. A microtoxicity study of bacterial growth prevention revealed a reduction in the toxicity of cephalexin after the photocatalytic process. Conclusion: This study results showed UV/ZnO is an effective method in the removal of cephalexin from aqueous solutions .

Document Downloads